Вырожденные полупроводники
Как уже отмечалось выше (п. 1.6.3), к вырожденным полупроводникам относятся примесные полупроводники с высокой концентрацией атомов легирующих примесей, достигающей 1024...1026 м-3. На основе этих полупроводниковых материалов изготавливают такие компоненты, как туннельные диоды, лазерные и термоэлектрические устройства, некоторые элементы интегральных схем.
Особенностью сильно легированных полупроводников является то, что при достаточно высокой концентрации легирующей примеси примесный уровень размывается в примесную зону. При некоторой, достаточно высокой, концентрации примеси примесная зона расширяется настолько, что сливается с краем разрешенной энергетической зоны, как это показано на рис. 1.27 на примере электронного полупроводника.
Следствием расширения примесной зоны
является снижение энергии ионизации примесных атомов практически до нулевого значения. В вырожденном
полупроводнике уровень Ферми оказывается внутри примесной
зоны, примыкающей к зоне проводимости или валентной зоне (в зависимости
от типа легирующей примеси), а вероятность "заселения" этой зоны
носителями заряда приближается к единице.
Критическая концентрация носителей заряда, , приводящая к вырождению полупроводника, определяется из выражения
, (1.41)
где m* - эффективная
масса носителей заряда; DWпр - энергия ионизации примеси; B=4(4pe/3h2)3/2 - постоянный
коэффициент; e » 2,73 - основание
натуральных логарифмов.
Следовательно, критическая концентрация носителей заряда, при которой наступает вырождение полупроводника, определяется эффективной массой m* носителей заряда и энергией ионизации DWпр примесных атомов. Расчеты показывают, что при m*=0,3m и DWпр=0,03эВ значение =2×1025 м-3.
На рис. 1.28 представлен график температурной зависимости концентрации носителей в слабо- и сильнолегированных полупроводниках.
Из рисунка 1.28 следует, что,
вследствие обращения в нуль энергии ионизации примесных атомов, в сильно легированном полупроводнике
концентрация электронов в зоне проводимости перестает зависеть от
температуры вплоть до температуры перехода Ti к собственной
проводимости.